Serie ASCENT AP
Controllo di potenza senza precedenti per Sputtering a singolo e doppio magnetron
Descrizione
Raggiungi nuovi livelli di prestazioni del tuo processo utilizzando la tecnologia DC pulsata bipolare di comprovata affidabilità.
- Il controllo avanzato della forma d’onda consente la messa a punto precisa del processo
- Disponibile per applicazioni di sputtering magnetron pulsato singolo o doppio catodo.
- Il design compatto include sia la parte DC che il sistema di pulsaggio.
Panoramica
Gli alimentatori Ascent® AP offrono un controllo del plasma senza precedenti in una soluzione compatta per sputtering a magnetron singolo e doppio magnetron. La tecnologia pulsata brevettata di Advanced Energy consente una notevole soppressione degli archi, livelli di potenza più elevati e una maggiore produttività. I parametri di controllo di Ascent AP e l’ampia gamma operativa espandono l’utilizzo di molteplici materiali incrementando sia la flessibilità del processo che l’innovazione dei materiali.
CARATTERISTICHE
- Vasta personalizzazione del processo con ampia libertà dei parametri di erogazione della potenza
- Gestione avanzata dei processi attraverso un approccio a più livelli alla mitigazione degli archi
- Soluzione singola compatta (fino a 30 kW)
- Tecnologia Set Point Compensation™ per una produttività stabile
- Ampio range operativo per consentire una varietà di materiali di processo
