Quanta RPS
Sorgente al plasma remota VHF con funzionalità avanzate per applicazioni per film sottili avanzate.
Descrizione
Per il massimo controllo dei parametri di processo, VHF RPS consente di personalizzare il mix radicale nel plasma. Consente una ampia gamma di accensione e di funzionamento e di un’alta densità di specie reattive.
- In grado di sintonizzare molto bene i parametri del plasma
- Monitoraggio in tempo reale della tensione, corrente e impedenza del plasma
- La regolazione rapida della frequenza allo stato solido assicura una produzione di plasma stabile e ripetibile
Panoramica
Combinando l’energia VHF e l’architettura CCP, la sorgente di plasma Quanta® remote (RPS) consente la generazione e l’espansione del plasma allo stato dell’arte in nuovi processi a film sottile non possibili con il tradizionale RPS o generazione di plasma in-situ.
In grado di generare plasma a bassissima energia, Quanta RPS consente processi senza danneggiamento di geometrie più piccole per la realizzazione di chip di futura generazione. Quanta è in grado di accendere i gas in lavorazione, eliminando la necessità di argon e rimuovendo l’effetto del processo di accensione sul wafer.
Con un’accensione estremamente ampia e una portata operativa, Quanta ha capacità che superano ampiamente le altre unità RPS.
CARATTERISTICHE
- Accensione migliorata del gas in corso; vasta gamma di flusso e pressione
- Adattamento dell’impedenza allo stato solido integrata e regolazione della frequenza
- Virtual Front Panel consente il controllo e il monitoraggio da parte dell’utente di funzionalità e parametri operativi
- Ceramica Al2O3 di elevata purezza su tutte le superfici bagnate al plasma
- In grado di pulsare
