Serie ASCENT DMS
Sputtering Dual-Magnetron avanzato.
Descrizione
Una soluzione collaudata sul campo per qualsiasi applicazione di sputtering a doppio magnetron con funzionalità aggiuntive che facilitano l’innovazione di processo.
- Raggiungimento di tassi di deposizione più elevati con un processo più stabile grazie alla gestione ARC avanzata
- Messa a punto del processo con frequenza variabile e ciclo di lavoro
- Adattabile ai tuoi requisiti del tuo impianto: unità da 30, 40 e 60 kW configurabili fino a 180 kW
Panoramica
La serie Ascent®DMS offre una facilità e un controllo di erogazione di potenza senza precedenti per lo sputtering a doppio magnetron, consentendo una regolazione precisa delle caratteristiche del film.
Con la frequenza selezionabile, la modalità di regolazione e il ciclo di lavoro, nonché la bassa energia immagazzinata e la configurazione semplificata e modulare del sistema, il generatore Ascent DMS si distingue come tecnologia realmente di prossima generazione.
Economico, scalabile e versatile, riduce al minimo la complessità, aumenta la qualità e aumenta il throughput per consentire l’innovazione di processo avanzata.
Il pacchetto Ascent DMS MF-120 fornisce un’alimentazione economica e di media frequenza per catodi standard, offrendo al tempo stesso vantaggi della tecnologia a impulsi bipolari.
CARATTERISTICHE
- Modulari e scalabili (modelli da 40, 60 e 120 kW configurabili fino a 180 kW)
- Frequenza selezionabile (da 500 Hz a 50 kHz)
- Ciclo di lavoro regolabile: regolazione indipendente del rapporto di potenza per ciascun magnetron
- Gestione avanzata dei processi attraverso un approccio a più livelli alla mitigazione dell’arco
- CEX (sincronizzazione di fase)
