Il versatile generatore a frequenza variabile LFGS (1250 W, da 40 a 500 kHz) si adatta a un’ampia varietà di applicazioni di processi al plasma sia generiche che nei semiconduttori, tra cui sputtering, attacco ionico reattivo, deposizione al plasma, polimerizzazione e trattamento superficiale.

Compatto, montabile su rack da 19 “e raffreddato ad aria, di facile installazione, consente di risparmiare spazio prezioso. Con un amplificatore in classe D, l’alimentatore LFGS consente di avere la potenza riflessa più bassa disponibile nel mercato.